PVD鍍鉻 技術主要采用電弧濺射技術，利用陰陽極之間的放電離化氬氣，使氬離子在作為陰極的靶材電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶原子，中性的靶原子或離子沉積在基片上，形成固體薄膜。本項目在上述原理的基礎上進行改進和新技術開發，采用改進的電弧-濺射技術提高靶功率密度，采用等離子體源增強技術提高91香蕉影院在线观看室的等離子體密度，從而開發出環保、高效的快速PVD鍍鉻新技術。PVD真空鍍鉻的優勢有以下幾個方麵：

1、完全無汙染的生產工藝過程：在塗層前處理中，采用環保型的金屬清洗劑對工件表麵進行去油和脫脂處理，烘幹後工件放入真空室中進行PVD鍍鉻處理。鍍鉻過程以高純金屬鉻為原料，通入氮氣和氬氣等瓶裝氣體，在沉積鉻複合塗層的專用設備中，采用先進的等離子體源輔助電弧-濺射等先進技術，通過電場、磁場、等離子體和離子束流的作用，發生化學反應，實現了鉻複合塗層的生成。使用的原材料價廉易得，國內可以大量供應。在整個工藝生產過程中，沒有采用任何有毒有害的原料，是完全無汙染的綠色環保生產技術。

2、優良的基體材料適應性：由於PVD鍍鉻 裝置能夠提供較高的等離子體密度和靶功率密度，所製備塗層膜-基附著力強，可以在不同襯底材料上(鋼、有色金屬、陶瓷)製備各類金屬和合金。而電鍍方法對於不同基材需要不同的處理工藝。對製備不同的塗層材料，PVD技術隻需要更換靶材，而化學方法製備不同材料需要一係列複雜的配方和前處理工藝。

3、優越的塗層性能：與電鍍鉻相比，PVD鍍鉻塗層的硬度更高。電鍍鉻的硬度一般為Hv800～900，而PVD方法可以達到Hv1500以上，同時耐磨性遠優於電鍍鉻。PVD方法在塗層製備過程中塗層致密，沒有孔洞，不會產生穿透性裂紋，導致腐蝕介質從表麵滲透至界麵而腐蝕基體，造成鍍層表麵出現鏽斑甚至剝落。